Для плазменного травления используют главным образом тетрафторуглерод в смесях с кислородом, азотом и другими газами. По прогнозу, к 1987 г. доля плазменных травителей в общем потреблении травителей в электронике возрастет до 50—60%. При этом некоторые из жидких травителей потеряют свое значение.

[Выходные данные]